12월 13일 자 <동아일보>는 삼성 ASML MOU 체결에 대해 보도했다. 삼성전자와 ASML은 내년부터 1조 원을 공동 투자해 국내에 차세대 반도체 제조 기술 R&D센터를 짓는다는 내용의 MOU를 체결했다. 이번 MOU로 삼성전자와 ASML의 공동 R&D센터에 극자외선(EUV) 노광장비가 투입되면 이를 기반으로 삼성전자의 차세대 파운드리 공정 개발에 더욱 속도를 낼 수 있을 것으로 보인다.

앞서 지난해 11월 방한한 페터르 베닝크 ASML 최고경영자(CEO)는 2025년까지 총 2400억 원을 투자해 화성시에 반도체 장비 수리센터를 비롯한 클러스터를 짓겠다고 발표했다. ASML은 이번 MOU로 한국 반도체 업계와 차세대 기술 개발까지 함께하겠다고 협력 범위를 넓힌 것이다.

박재근 융합전자공학부 교수(한국반도체디스플레이기술학회장)는 “반도체 기술의 초미세화가 점차 어려워지면서 해외 부품, 장비 기업과의 협업이 필수가 되고 있다”며 “이들 기업의 국내 R&D 및 시험 라인을 지속적으로 적극 유치해야 한다”고 말했다.