삼성전자, 세계 최초 토토사이트추천적용 D램 양산
EUV 연구는 1998년 한양대의 소규모 개인연구사업을 통한 EUV 관련 광학소재 연구에서 출발했다. 이어 2002년부터 시작한 산업자원부(현 산업통상자원부) 지원 ‘차세대 신기술 개발사업단’을 발족, 2011년까지 약 9년간 컨소시엄 형태로 대규모 사업을 진행했다. 이를 계기로 EUV 노광기술에 대한 연구 개발이 본격화되었다. 이러한 경험들은 현재 우리나라가 세계 최초로 EUV 노광기술의 양산 적용을 이루는데 초석이 됐다.
하지만 토토사이트추천 노광기술이 실제 양산에 적용되기까지는 수많은 우여곡절과 양산 적용기술의 어려움이 있었다. 토토사이트추천는 단파장 특성으로 인해 집적도가 높은 반도체 소자의 생산을 가능하게 했지만, 모든 물질에 흡수돼 소멸하는 특성으로 인해 기존과는 다른 원리를 이용한 노광, 검사장비와 새로운 소재, 부품의 개발이 필요했다. 현재 판매되고 있는 제1세대 토토사이트추천 양산장비는 한 대당 약 2000억원 정도로 알려져 있으며, 연간 약 30대 정도를 생산하고 있지만 아직 전 세계 수요에는 부족하다.
한편 작년 11월 출범한 한양대 EUV-IUCC(Industry-University Cooperation Center)는 국내외 대학과 연구소의 연구역량을 결집하여, 관련 기업들과 지속적인 동반성장을 하기 위해 만들어진 협력센터이다. 한양대의 산학협력 프로그램 IUCC 일환으로 국내 유일한 EUV 산학협력센터이다. EUV 분야 국내 최고 권위자인 한양대 안진호 신소재공학부 교수가 센터장을 맡았다. 한양대는 EUV 광원 구현 환경을 갖춘 국내 2개 기관 중 한 곳이다. 이 곳에서는 EUV 부품 소재 특성 평가 및 개발이 가능하며 현재 삼성전자, 에스앤에스텍, 에프에스티(FST), 이솔 등과 EUV 관련 기술 공동 개발 프로젝트를 수행 중이다. 안진호 교수는 "기업에 꼭 필요한 기술을 제공할 것"이라면서 "산업계 정보 제공 및 산업체 인력 대상 교육 프로그램도 마련하겠다"고 말했다.
지난 달 삼성전자(005930)는 최초로 EUV 공정을 적용한 D램 메모리 양산 체제를 갖추고 60억 달러(약 7조 2000억원)을 투자한 EUV 전용 반도체 생산시설 ‘V1 라인’ 가동을 시작했다.또 EUV 공정을 적용해 생산한 1세대 10나노 DDR4 D램 모듈 100만개 이상을 전 세계에 공급해 평가까지 마쳤다. 이는 EUV 공정을 차세대 D램 제품부터 전면 적용해 반도체 미세공정의 한계를 돌파하고 D램의 새로운 패러다임을 제시했다고 평가받는다. EUV 노광 기술을 적용하면 회로를 새기는 작업을 반복하는 ‘멀티 패터닝(Multi-Patterning)’ 공정을 줄이면서 패터닝 정확도를 높여 성능과 수율을 향상하고 제품 개발 기간도 단축할 수 있다. SK하이닉스 역시 올해 하반기 완공 예정인 이천 M16공장 내에 들어설 ‘EUV 전용라인’에서 D램 양산을 계획하고 있다.
다양한 첨단 기기들의 출현으로 복잡한 회로를 가진 반도체의 수요가 급격히 증가하면서 EUV 기술은 필수적이다. 5세대이동통신(5G)과 인공지능(AI), 자율주행 등 4차 산업혁명 시대의 차세대 고부가 반도체 생산에 핵심 기술로 활용될 전망이다. 극자외선(EUV) 노광 시대가 코앞으로 다가온 것이다.
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한양커뮤니케이터H
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